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    老板工作間。

    一個(gè)又一個(gè)的零件被打磨了出來。

    得心應(yīng)手地操控著小黑，工業(yè)加工方面，衛(wèi)明不斷創(chuàng)造出精度的極限。

    只要先制造出一批精確度達(dá)到0.1納米的“尺子”。

    再根據(jù)這些尺子，加工所需要的零件，建立一套可以參考對(duì)照的精準(zhǔn)體系。

    如果出現(xiàn)累積誤差，就手動(dòng)修正一番，讓整體的誤差范圍不會(huì)超過1納米。

    甚至衛(wèi)明會(huì)親自參與到耗費(fèi)時(shí)間極多的“組裝”過程中，利用小黑的掃描半徑，其他操作手至少得半小時(shí)才能裝好的一個(gè)零件，他3分鐘內(nèi)就能實(shí)現(xiàn)精確安裝。

    并且修正了許多地方的安裝誤差。

    讓系統(tǒng)的穩(wěn)定性大大提高。

    讓13個(gè)精確的子系統(tǒng)，逐漸變成了一個(gè)能進(jìn)行精確聯(lián)動(dòng)的大系統(tǒng)。

    于是接下來的半個(gè)月。

    光刻機(jī)研發(fā)部，刷新了一個(gè)又一個(gè)數(shù)據(jù)記錄，每天都有爆發(fā)般的歡呼，從廠房里發(fā)出。

    “錫滴釋放頻率每秒5萬次，持續(xù)工作33分27秒。”

    “每秒5萬次，持續(xù)工作38分15秒！”

    “每秒5萬次，持續(xù)工作47分48秒！”

    “每秒5萬次，持續(xù)工作59分52秒……接近一個(gè)小時(shí)，光源系統(tǒng)磨合到完美程度，這是不可能被超越的一個(gè)極限！”

    不過還有一個(gè)極限，不是不能突破。

    “既然我們的光源系統(tǒng)穩(wěn)定性這么高，索性，我們不做復(fù)雜麻煩的‘糾偏系統(tǒng)’算了，再往里面加入一組光源，構(gòu)成‘雙光源系統(tǒng)’，光刻機(jī)正常使用的情況下，只讓一組光源進(jìn)行工作，每次工作半個(gè)小時(shí)，另一組光源進(jìn)入休息調(diào)整狀態(tài)，半小時(shí)后接替工作，輪流換班，減少累積誤差。”

    “此外這臺(tái)機(jī)器還有一個(gè)‘狂暴模式’，那就是讓兩套光源系統(tǒng)，同時(shí)投入工作，每秒10萬粒的錫滴，20萬次的擊打，產(chǎn)生超過1250瓦強(qiáng)度的極紫外光，這個(gè)光強(qiáng)是艾思邁光刻機(jī)250瓦的5倍之高，比普通duv光刻能量也強(qiáng)悍的多。”

    “狂暴模式下，這臺(tái)光刻機(jī)每小時(shí)至少能處理600片以上的晶圓，艾思邁只能處理125片，我們的效率能高四五倍！”

    “而且能量越高，光刻出的清晰度、銳利度也越高，這能明顯提高芯片的質(zhì)量和良率，減少多重曝光的次數(shù)，更容易實(shí)現(xiàn)3納米芯片的制造，幫助我們從開始的7納米，越過中間的5納米，快速過渡到最新的3納米，實(shí)現(xiàn)跳躍式的發(fā)展！”

    蒲偉才的技術(shù)團(tuán)隊(duì)中，一位名叫羅聰?shù)难芯繂T，提出了一個(gè)叫“狂暴模式”的構(gòu)想。
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