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    從華芯國際生產車間中偷偷摸出來的光刻機，是193nmarf光源的干式光刻機，生產的半導體工藝節點最多可以達到45/40nm。

    但阿斯麥爾采用的浸沒式技術，和激進的可制造性設計（dfm）等技術后，可以將工藝制程邁進22nm以內，甚至通過多重曝光等技術，可以達7nm的工藝！

    7nm，那已經相當于江成前世用的麒麟980、985的技術。

    至于技術，其實也并不復雜。

    通過在原有的193nm光刻機系統當中增加浸沒單元，利用超純水替換透鏡和晶圓表面之間的空氣間隙。

    因為超純水在193nm波長時的與空氣的折射率1.44：1，故而讓光源進入后波長縮短，從而提升光刻分辨率。

    不過超純水這些東西，江成并不確定自己能否模擬出來。

    體內電腦模擬的出來的，主要是電子設備或是能夠運行電子的材料。

    其他塑料、非金屬材料，更多是模了一個樣子，并沒有實際用處。

    江成嘗試了一下，將手指伸到自來水處。

    釋放生物電流。

    然而，沒有任何反應。

    江成估計超純水這樣的液體，也無法進行模擬。

    但江成卻又有了想法。

    超純水咱搞不了，但在體內電腦里頭，咱們的權限是超級大的啊！

    這可不像是在外界的實體設備，無法輕易調整。

    江成可以自由調整和修改各類材料、各類電路。

    甚至光刻機的光源激發設備，江成也覺得可以嘗試一下調整調整嘛。

    誰讓你模擬進來實驗室了呢？

    在這實驗室里頭，所有的東西都是模擬出來的，一切由江成做主。

    不就是要降波長嘛，就是沒有超純水，咱也照樣盤他！


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